随着社会的不断进步，人工智能、大数据与工业的全方位系统集成，根据公司发展需要，
应对未来市场，产品不断升级，10月份新研发产品氧化铝靶材成功突破，
本研发项目有过硬的技术团队把控每道质量工序，该产品投放市场后，通过客户试用，每项指标均已达到使用标准。

氧化铝靶材具有以下特点：

1、高化学纯度，能够更好地满足电子工业的要求；

 2、低杂质含量，保证了膜层的纯度和稳定性；

      3、良好的膜形成能力和稳定性，有利于薄膜和涂层的均匀性和稳定性；

      4、优异的化学性质和热稳定性，能够在高温和恶劣的环境下稳定工作。

氧化铝靶材主要应用于以下领域：

      1、光学薄膜：用于制备高折射率的光学薄膜；

      2、电子薄膜：用于制备金属铝、钨、钼等金属材料的电子薄膜；

      3、陶瓷工业：用于制备高温陶瓷材料和瓷砖；

      4、化学仪器：用于制造高温化学反应器和高温储罐等化学仪器。

技术参数





 

*注：以上参数仅供参考，可根据客户实际需求，适当调整。